Powered by Made-in-China.com
Ito binding Target Indium tin Oxide High Density
Guangdong, Trung QuốcBeenine Shanke Technology Co., Ltd.
Ito binding Target Indium tin Oxide High Density
300,00 US$
1 Cái
Hồ sơ sản phẩm
Loại
Plane Sputtering TragetHình dạng
Vòng trònChứng nhận
ISOGói Vận Chuyển
hộp gỗThông Số Kỹ Thuật
độ tinh khiết 99.99%Xuất Xứ
Trung QuốcMã HS
8486909900Năng Lực Sản Xuất
1000pc/nămHồ sơ công ty
Beenine Shanke Technology Co., Ltd.Guangdong, Trung Quốc
Loại Hình Doanh Nghiệp: Nhà Sản Xuất/Nhà Máy
Gửi yêu cầu
*Đến:Beenine Shanke Technology Co., Ltd.
Beenine Shanke Technology Co., Ltd.*Nội Dung:
Phản hồi từ nhà cung cấp sẽ được gửi đến email đã đăng ký của bạn
Bạn cũng có thể thích
Mục tiêu Cerium Oxide Sputtering có mật độ cao CEO2 cho quá trình lắng đọng
US$100.00-1,000.00
1 Cái(MOQ)
99.99% Mục tiêu phun gốm Indium Tin Oxide ITO nguyên chất cho lớp phủ PVD
US$35.00-150.00
1 Cái(MOQ)
Mục tiêu Oxit Indium Thiếc ITO Phun Hút Chân Không PVD Mục tiêu Creen
US$4,600.00
1 Cái(MOQ)
Mục tiêu phun gốm oxit yttrium yttria mật độ cao Y2o3
US$30.00-100.00
1 Cái(MOQ)
Mục tiêu phún xạ gốm tùy chỉnh ITO90/10wt% Mục tiêu phún xạ oxit indium thiếc
US$70.00-105.00
1 Cái(MOQ)
Mục tiêu ITO Mục tiêu Oxit Indium Tin
US$7,800.00
1 Cái(MOQ)
99.99% Mục tiêu phún xạ hợp kim thiếc vàng tinh khiết cao
US$665,000.00
10 Miếng(MOQ)
Mục tiêu phún xạ Rhenium tinh khiết cao 99.99%, Mục tiêu tròn kim loại Re
US$1,000.00-4,000.00
1 Cái(MOQ)
Giá mục tiêu titan phun cao độ tinh khiết cho lớp phủ PVD/Mục tiêu titan phun tròn titan để bán
US$80.00-300.00
1 Cái(MOQ)
Mục tiêu phủ sputter platinum có độ tinh khiết cao, kim loại platinum nguyên chất 99.95% vật liệu mục tiêu sputtering magnetron
US$33,000.00-70,000.00
1 Cái(MOQ)
