SourcingAI
Try for free
Powered by Made-in-China.com
Chất tiền chất silicon tiên tiến cho sản xuất bán dẫn - Bdeas C8h22n2si
5,00 US$
200 Miếng
Giá mẫu: US$5.00/cái.Yêu cầu mẫu

Hồ sơ sản phẩm

tùy chỉnh

Có sẵn

Số cas

27804-64-4

Công thức

C8h22n2si

Mã sản phẩm

C8h22n2si

EINECS

631-070-6

Chứng nhận

TẦM VƯƠN XA

Bảo vệ môi trường

Vâng

Xuất hiện

Chất lỏng

Màu sắc

Màu trắng

Thông Số Kỹ Thuật

200L

Nhãn Hiệu

- anh ta

Xuất Xứ

Shanghai

Các tính năng chính

Công nghệ ALD ở nhiệt độ thấp: Phù hợp cho quá trình lắng đọng lớp mỏng nguyên tử ở nhiệt độ thấp của các màng hafnium silicat.
Khả năng điều chỉnh tuyệt vời: Cho phép điều chỉnh thành phần của màng HfSiOx một cách hiệu quả.
Ứng dụng đa dạng trong lắng đọng màng: Được sử dụng cho quá trình ALD của các màng SiO2, HfO2 hoặc HfSiOx bằng cách sử dụng ozone.
Phản ứng thủy phân nhanh: Phản ứng nhanh chóng với hơi ẩm, nước và các dung môi có chứa proton.
Đạt chứng nhận REACH: Sản phẩm đáp ứng các tiêu chuẩn về chứng nhận REACH và bảo vệ môi trường.

Hồ sơ công ty

Chứng nhậnLoại Hình Doanh Nghiệp: Công Ty Thương MạiNăm Xuất Khẩu: 2024-07-23Cảng Gần Nhất: ShanghaiThời gian phản hồi trung bình: ≤5.90hĐiều Khoản Thanh Toán: LC, T/T., D/PĐiều Khoản Thương Mại Quốc Tế (Incoterms): FOB, EXW, MÃ SỐ THUẾ, DDP

Giới thiệu về nhà máy của chúng tôi & Bối cảnh kinh doanh

Địa ChỉShanghai, China
Vốn Đăng Ký10,000,000 nhân dân tệ
Thời Gian Giao Hàng Trung BìnhThời Gian Giao Hàng Trong Mùa Cao Điểm: 1-3 tháng, Thời Gian Giao Hàng Trong Mùa Thấp Điểm, 1-3 tháng

Năng lực sản xuất của chúng tôi & Chuyên môn kỹ thuật

Sản Phẩm ChínhKhí bán dẫn, khí y tế, khí công nghiệp, tiền chất, khí đặc biệt, khí hiếm, khí xenon, khí heli, N2o

Kinh nghiệm trong ngành của chúng tôi & Kỷ lục kinh doanh toàn cầu

Năm Thành Lập2011-03-16
Thị Trường ChínhBắc Mỹ, Đông Âu, Đông Nam Á, Đông Á, Tây Âu, Trung Đông, Nam Mỹ, Châu Phi

Sản phẩm Q&A

Q:Sản phẩm này có phù hợp với công nghệ lắng đọng nguyên tử lớp mỏng (ALD) ở nhiệt độ thấp không?
A:
Có, sản phẩm này đã được nghiên cứu và đánh giá như một chất tiền thân silicon dạng lỏng cho công nghệ ALD ở nhiệt độ thấp.
Q:Những loại màng nào có thể được tạo ra bằng cách sử dụng chất tiền thân này?
A:
Nó phù hợp để tạo ra các màng SiO2, HfO2 hoặc HfSiOx khi sử dụng cùng với ozone.
Q:BDEAS phản ứng với hơi ẩm như thế nào?
A:
Nó phản ứng nhanh chóng với hơi ẩm, nước và các dung môi có chứa proton.
Q:Sản phẩm này có đáp ứng các tiêu chuẩn môi trường không?
A:
Có, sản phẩm này đã được chứng nhận REACH và đáp ứng các yêu cầu về bảo vệ môi trường.
Q:Số CAS của chất tiền thân này là gì?
A:
Số CAS là 27804-64-4.

Gửi yêu cầu

*Đến:Shanghai Zhongyida New Materials Co., LtdShanghai Zhongyida New Materials Co., Ltd
*Nội Dung:
0/4000

Phản hồi từ nhà cung cấp sẽ được gửi đến email đã đăng ký của bạn

Bạn cũng có thể thích